OES1000國(guó)產(chǎn)直讀光譜儀

產(chǎn)品介紹

儀器全年工作，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性

可在約50秒內(nèi)同時(shí)分析32個(gè)通道

單一分光室，方便保養(yǎng)、維護(hù)

原廠分析程序，可校正集體效應(yīng)和譜線干擾

使用認(rèn)證標(biāo)樣來(lái)標(biāo)定和標(biāo)準(zhǔn)化工作曲線，保證分析的準(zhǔn)確度

光源設(shè)計(jì)緊湊，有效降低電磁干擾，改善儀器穩(wěn)定性

高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)

高質(zhì)量的恒溫和防震性能 

標(biāo)準(zhǔn)配置

分析通道8個(gè)

分析軟件OES1000

測(cè)量控制箱

高壓火花電源箱

恒溫、真空系統(tǒng)

直聯(lián)旋片式真空泵

1kVA交流凈化電源

電腦

打印機(jī) 

技術(shù)指標(biāo)

分光室設(shè)計(jì)：帕邢-龍格裝置，1米焦距；根據(jù)測(cè)試需求分為真空型、非真空型兩種；特殊材質(zhì)鑄造，保證腔室形變小

多安裝通道：32

凹面光柵：刻線密度2160gr/mm，曲率半徑998.8mm；逆線色散率0.47nm/mm，波長(zhǎng)范圍170-463mm

狹縫寬度：入射狹縫20μm；出射狹縫35-75μm

光電倍增管：10級(jí)側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼

分辨率：依出射譜線波長(zhǎng)和級(jí)次而不同

分析時(shí)間：依樣品種類(lèi)而不同，一般少于50秒

激發(fā)光源：高壓火花放電，放電頻率200或400Hz，電極間距3-4mm

測(cè)光方式：分段積分法

控制系統(tǒng)：采用FPGA技術(shù)控制儀器工作狀態(tài) 

直讀光譜儀用途

黑色金屬及有色金屬成分的快速定量分析

進(jìn)行煉爐前的快速分析以及中心實(shí)驗(yàn)室的產(chǎn)品檢驗(yàn)

可以用于多種基體分析：Al,Pb,Mg,Zn,Sn,Fe,Co,Ni,Ti,Cu等 

應(yīng)用領(lǐng)域

直讀光譜儀廣泛應(yīng)用于鑄造，鋼鐵，金屬回收和冶煉以及軍工、航天航空、電力、化工、冶金、機(jī)械及其他工業(yè)部門(mén)，高等院校和商檢，質(zhì)檢等單位 。